下記は当社保有のスパッタリングターゲットです。自由な組み合わせで膜付きウェーハが作成可能です。
・METALS（金属）
Au、Al、Ag、B、C、Co、Cr、Cu、Fe、Ge、Hf、In、Ir、Mg、Mn、Mo、Nb、Ni、Pd、Pt、Rh、Ru、Si（N型 1～50 Ω･cm / P型 1～50 Ω･cm / 高抵抗 1000 Ω･cm以上・5000 Ω･cm以上）、Sn、Ta、Ti、V、W、Y、Zn、Zr
・SILICIDES（シリサイド）
CoSi₂、MoSi₂.₅、NiSi₂、TaSi₂、TiSi₂、WSi₂、WSi₂.₅、ZrSi₂、CrSi₂
・NITRIDES（窒化物）
AlN、BN、Mo₂N、Si₃N₄、ZrN
・CARBIDES（炭化物）
SiC、TiC
・ALLOYS（合金）
Al-Cu、Al-Nd、Al-Sc、Al-Si、Al-Si-Cu、Al-Ti、Au-Sn、Cu-Ni、Co-Cr、Fe-Co、Ni-Cr、Ni-Fe、Ni-V、TiW
・OXIDES（酸化物）
Al₂O₃、AZO、BaTiO₃、CeO₂、CuO、Fe₂O₃、Ga₂O₃、Gd₂O₃、HfO₂、In₂O₃、ITO、IZO、LiCoO₂、LiMn₂O₄、LiNbO₃、Li₃PO₄、MgO、Mn₂O₃、Nb₂O₅、NiO、PZT、RuO₂、SiO、SiO₂、SnO、SnO₂、SrRuO₃、SrTiO₃、Ta₂O₅、TiO₂、WO₃、Y₂O₃、ZnO、ZrO₂ : Y₂O₃